Но забацать девайс с газами неподсилу людям
Вопрос - можно ли получить слой окиси в жидкой фазе, взяв, например, Alk3SiH и окислитель кислородсодержащий, который недолжен при н.у. реагировать с силаном, а при облучении дать SiO2 на кремнии.
Как вариант окислителя t-BuOOH
Вобщем, нужны смелые идеи!!!