The Mechanism of Blister Formation and Rupture in the Pitting of Ion-Implanted Aluminum
P. M. Natishan and E. McCafferty
Код: Выделить всё
http//:dx.doi.org/10.1149/1.2096613+++JECS
+++JECS
1.J. Electrochem. Soc., Volume 136, Issue 1, pp. 53-58 (January 1989)
The Mechanism of Blister Formation and Rupture in the Pitting of Ion-Implanted Aluminum
P. M. Natishan and E. McCafferty
The Mechanism of Blister Formation and Rupture in the Pitting of Ion-Implanted Aluminum
P. M. Natishan and E. McCafferty
Последний раз редактировалось Rotenberg Вт фев 03, 2009 1:04 pm, всего редактировалось 1 раз.
Кто сейчас на конференции
Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и 38 гостей