Hong Liu, Zhong Lin Wang
Etching silicon wafer without hydrofluoric acid
Applied Physics Letters, 2005, volume 87, p.261913/1-3
Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1063/1.2158021Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1063/1.2158021Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и 9 гостей