C. Chartiera, S. Bastide, C. Lévy-Clément
Metal-assisted chemical etching of silicon in HF–H2O2
Electrochimica Acta, volume 53, issue 17, 1 July 2008, pages 5509-5516
Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1016/j.electacta.2008.03.009заранее благодарны!