+++статья Pr*c. of ISES

[Hedgehog]

Коллеги, помогите со статьей:
The Influence of NH4F on Silicon Etching in HF/HNO3/H2O System
Proceedings of ISES World Congress 2007 (Vol. I – Vol. V), p.4, pages 1051-1054
авторов много, все они китайцы

DOI:

http://dx.doi.org/10.1007/978-3-540-75997-3_204

[Viksya]

А вот не катит ДОИ, Ежак!
Скопируйте ДОИ как есть на сайте, а потом заключите его в

DOI:

http://dx.doi.org/ /doi], в [code] /code] заключать не надо!

[Hedgehog]

[Viksya]

А воть

[Hedgehog]

Спасибо!