J. W. Coburn, Harold F. Winters
Ion- and electron-assisted gas-surface chemistry—An important effect in plasma etching
Journal of Applied Physics, 1979, vol.50, p.3189
- DOI:
http://dx.doi.org/10.1063/1.326355
+++статья AIP
+++статья AIP
Помогите со статейкой, please
J. W. Coburn, Harold F. Winters
Ion- and electron-assisted gas-surface chemistry—An important effect in plasma etching
Journal of Applied Physics, 1979, vol.50, p.3189
J. W. Coburn, Harold F. Winters
Ion- and electron-assisted gas-surface chemistry—An important effect in plasma etching
Journal of Applied Physics, 1979, vol.50, p.3189
Последний раз редактировалось Hedgehog Ср янв 27, 2010 12:27 pm, всего редактировалось 1 раз.
bacco, tabacco e Venere
Кто сейчас на конференции
Сейчас этот форум просматривают: нет зарегистрированных пользователей и 56 гостей