THERMAL-ANNEALING-INDUCED EFFECTS IN CHEMICALLY DEPOSITED COBALT SULPHIDE THIN FILMS
Авторы F.C. Eze
Журнал Semiconductor Science and Technology
Год выпуска 2001 ISSN 0268-1242
Том 16 Номер 5
Страницы 362-366
Код: Выделить всё
http://dx.doi.org/10.1088/0268-1242/16/5/314Заранее благодарен