+++ 1 Journal of Vacuum Science and Technology B

[presledovatel]

Друзья!

Не поможете со статьей:

Effects of radio frequency bias frequency and radio frequency bias pulsing on SiO2 feature etching in inductively coupled fluorocarbon plasmas
M. Schaepkens, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook
J. Vac. Sci. Technol. B 18, 856 (2000)

DOI:

http://dx.doi.org/10.1116/1.591286

Заранее спасибо!

[Demcha]

[presledovatel]

Спасибо огромное!