W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, A. Leroux, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Formation of large positive silicon-cluster ions in a remote silane plasma, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1531 (1999);
- DOI:
http://dx.doi.org/10.1116/1.581847
+++J. Vac. Sci. Technol. - 1ст.
+++J. Vac. Sci. Technol. - 1ст.
Здравствуйте! Прошу скачать статью:
W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, A. Leroux, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Formation of large positive silicon-cluster ions in a remote silane plasma, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1531 (1999);
W. M. M. Kessels, C. M. Leewis, A. Leroux, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Formation of large positive silicon-cluster ions in a remote silane plasma, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 1531 (1999);
Последний раз редактировалось o-oxhem Вт окт 16, 2012 5:34 pm, всего редактировалось 1 раз.
Re: J. Vac. Sci. Technol. - 1ст.
У вас нет необходимых прав для просмотра вложений в этом сообщении.
Re: J. Vac. Sci. Technol. - 1ст.
спасибо
Кто сейчас на конференции
Сейчас этот форум просматривают: Google [Bot] и 19 гостей