+++ Jpn. J. Appl. Phys. - 3ст.

В этом форуме размещаются только запросы на материалы из on-line источников -- обязательно приводить электронную ссылку
Ответить
o-oxhem
Сообщения: 425
Зарегистрирован: Вт июл 08, 2008 10:33 pm

+++ Jpn. J. Appl. Phys. - 3ст.

Сообщение o-oxhem » Ср фев 13, 2013 10:24 pm

Здравствуйте! Прошу скачать статьи:

1) Akimasa Yuuki, Yasuji Matsui and Kunihide Tachibana, A Numerical Study on Gaseous Reactions in Silane Pyrolysis
Jpn. J. Appl. Phys. 26 (1987) pp. 747-754
DOI:
http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.26.747

2) Akimasa Yuuki, Yasuji Matsui and Kunihide Tachibana, A Study on Radical Fluxes in Silane Plasma CVD from Trench Coverage Analysis
Jpn. J. Appl. Phys. 28 (1989) pp. 212-218
DOI:
http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.28.212
3) Motoaki Kawase, Tsuyoshi Nakai, Akimasa Yamaguchi, Tomohiro Hakozaki and Kenji Hashimoto, Jpn. J. Appl. Phys. 36 (1997) pp. 3396-3407

Numerical Simulation of Plasma Chemical Vapor Deposition from Silane: Effects of the Plasma-Substrate Distance and Hydrogen Dilution
DOI:
http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.36.3396
Спасибо.
Последний раз редактировалось amik Сб фев 16, 2013 11:30 am, всего редактировалось 2 раза.
Причина: +++

o-oxhem
Сообщения: 425
Зарегистрирован: Вт июл 08, 2008 10:33 pm

Re: Jpn. J. Appl. Phys. - 3ст.

Сообщение o-oxhem » Пт фев 15, 2013 2:05 pm

прошу. Очень нужно.

Аватара пользователя
Beladonna
Сообщения: 347
Зарегистрирован: Ср апр 27, 2011 1:47 pm

Re: Jpn. J. Appl. Phys. - 3ст.

Сообщение Beladonna » Пт фев 15, 2013 6:26 pm

:arrow:
У вас нет необходимых прав для просмотра вложений в этом сообщении.

o-oxhem
Сообщения: 425
Зарегистрирован: Вт июл 08, 2008 10:33 pm

Re: Jpn. J. Appl. Phys. - 3ст.

Сообщение o-oxhem » Сб фев 16, 2013 10:04 am

спасибо.

Ответить

Вернуться в «Статьи и книги on-line»

Кто сейчас на конференции

Сейчас этот форум просматривают: Google [Bot] и 52 гостя