новости бизнеса
компании и предприятия
нефтехимические компании
продукция / логистика
торговый центр
ChemIndex
новости науки
работа для химиков
химические выставки
лабораторное оборудование
химические реактивы
расширенный поиск
каталог ресурсов
электронный справочник
авторефераты
форум химиков
подписка / опросы
проекты / о нас


контакты
поиск
   

Новости химической науки > Пленка молекулярной толщины без дефектов


10.12.2015
средняя оценка статьи - 5 (4 оценок) Подписаться на RSS

Интенсивно разрабатываемая область материалов атомной толщины, известных как однослойные полупроводники, может подтолкнуть революцию в материаловедении. Двумерные материалы могут оказаться полезными для создания прозрачных светодиодных дисплеев, ультраэффективных устройств для конверсии энергии Солнца в электроэнергию, фотодетекторов и наноразмерных транзисторов.

Тем не менее, прогресс в развитии двумерной электроники сдерживается тем обстоятельством, что такие пленки содержат большое количество дефектов, понижающих их производительность.

В новой работе исследователи из Университета Калифорнии и Национальной Лаборатории Беркли сообщают о том, что ими найден новый простой способ исправления таких дефектов, основанный на применении органической суперкислоты. Химическая обработка приводит к стократному увеличению фотолюминесцентного квантового выхода двумерного дисульфида молибдена.



Рисунок из Science, 2015; 350 (6264): 1065 DOI: 10.1126/science.aad2114

Интерес к однослойным проводникам обусловлен тем, что они плохо поглощают электромагнитное излучение, а также их способностью сопротивляться механической деформации – это необходимо для создания прозрачных или гибких электронных устройств.

Исследователи увеличили квантовый выход дисульфида молибдена (MoS2) от значения меньшего, чем 1%, до 97% за счёт погружения материала в сверхкислоту – бистрифлимид (TFSI). Результаты данного исследования могут обеспечить новые варианты применения однослойных материалов, как, например, MoS2, в оптоэлектронных устройствах и высокопроизводительных транзисторах.

Толщина монослоя MoS2 составляет около 0,7 нм. Как отмечает руководитель исследовательского проекта Али Джави (Ali Javey), чем тоньше материал, тем в большей степени он проявляет чувствительность к дефектам. Исследование Джави представляет собой первый пример идеального с точки зрения оптоэлектроники монослоя, примеров которому до настоящего времени просто не было описано.

Сверхкислоты были не случайно выбраны для обработки монослоев – эти вещества являются идеальными протонодонорами, а протонирование может как восполнить недостающие атомы в месте дефекта, так и удалить нежелательные примеси с поверхности двумерного материала. Такой тип обработки имеет большое значение и для светоизлучающих диодов, и для транзисторов – электронные компоненты из бездефектных слоев дисульфида молибдена могут быть уменьшены в размерах без потери их производительности.

Источник: Science, 2015; 350 (6264): 1065 DOI: 10.1126/science.aad2114

метки статьи: #графен, #нанотехнологии, #неорганическая химия, #химия поверхности

оценить статью: 12345
Перепечатка статьи разрешается при условии размещения активной гиперссылки на ChemPort.Ru
Комментарии к статье:
Ваше имя
Ваш e-mail, чтобы следить за обсуждением
   
Комментарий

Символ пятого P-элемента в табл. Менделеева
(латиницей, одной заглавной буквой):
   
 




Вы читаете текст статьи "Пленка молекулярной толщины без дефектов"
Перепечатка статьи разрешается при условии размещения активной гиперссылки на ChemPort.Ru

Все новости



Новости компаний

Все новости


© ChemPort.Ru, MMII-MMXVIII
Контактная информация